우리의 전도성 유리 레이저 Scriber는 고속 초 고료를 가능하게합니다 (<10μm) laser processing on glass/PET substrates. Ideal for ablation, scribing, and structuring of conductive layers (ITO, Ag, CNT, graphene, etc.) with 99% yield and ±3μm accuracy. Consumable-free, eco-friendly, and fully automated.
우리의 레이저 스크라이브 머신이 작동 중 : 초 미세 전도성 유리 처리
주요 장점
◎ 고효율 :
이 유리 레이저 스크라이브 머신은 자동화 된 소프트웨어 제어, 최대 4000mm/s의 고속 처리 및 정확한 ± 3 μm CCD 자동 정렬 .를 갖춘 건조하고 소모품이없는 공정을 특징으로합니다.
◎ 정밀도 및 유연성
이 스크라이빙 머신은 초산을 제공합니다<10 μm line width processing with support for nanosecond, picosecond, and femtosecond lasers, ±3 μm file stitching accuracy, and a customizable work area of up to 1200×600 mm.
◎ 비용 효율적인 생산
이 레이저 스크라이브 기계는 효율적이고 환경 친화적 인 제조를위한 높은 99% 수율, 저전력 소비, 최소 운영자 교육 요구 사항 및 오염 제로 오염을 제공합니다 (..
적용 가능한 자료
이 기계는 ITO, FTO, AG, CNT, Graphene, Nano -Silver, Moalmo, 구리, 전도성 폴리머 필름, 알루미늄 필름, PERC, Perovskite Solar Cell, TCO, Carbon Powder, 지르코니아, 티티 늄 산화, 아연 산화, 금,.,.,., .}과 같은 코팅 재료에 대해 Ultra -Fine -RINE- 폭 레이저 에칭을 수행합니다. 기판 . 투명 유리에서 직접 레이저 절제 및 스크라이브를 수행 할 수 있으며, 최소 선 너비는 10 미크론 .입니다.
기술 사양
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레이저 소스 |
섬유 레이저 |
녹색 레이저 |
UV 레이저 |
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파장 |
1064 nm |
532 nm |
355 nm |
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힘 |
20 W |
10 W |
10 W |
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맥박 너비 |
나노초, 펨토초, 피코 초 |
나노초, 피코 초 |
나노초, 피코 초 |
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최소 초점 지점 |
10 μm보다 작거나 동일합니다 (재료 및 레이저 유형에 따라 다름) |
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최소 에칭 라인 너비 |
10 μm보다 작거나 동일합니다 (재료 및 레이저 유형에 따라 다름) |
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처리 속도 |
4000 mm/s보다 작습니다 |
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처리 범위 |
600 × 1200 mm / 600 × 600 mm (표준 크기; 고객 요구 사항에 따라 사용자 정의 가능) |
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최대 단일 패스 영역 |
110 mm × 110 mm (표준 구성, 수요에 따른 선택 사항) |
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CCD 자동 포지셔닝 정확도 |
±3 μm |
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선형 모터 테이블 포지셔닝 정확도 |
±2 μm |
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선형 모터 테이블 반복성 |
±1 μm |
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장비 치수 |
1650 mm L × 1300 mm W × 1670 mm h |
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장비 무게 |
1800kgs |
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지원되는 파일 형식 |
표준 Gerber 파일, DXF 파일, PLT 파일 등 . |
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광범위한 산업에서 사용 .
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